临床挑战

牙槽骨吸收和上颌窦气化始终是上颌后牙区种植体植入的挑战。上颌窦底提升和外置（onlay）植骨是解决这些问题的常规方法。上颌窦底提升手术的两种主要方法是上颌后牙区骨量不足种植修复的常规方法。侧壁开窗方法主要用于严重的牙槽骨吸收，但其缺点之一是它需要大面积翻瓣以提供手术入路。穿牙槽嵴顶方法被认为是一个更保守的方法。本病例报告展示了一种用于解决上颌后牙区垂直向牙槽嵴缺损（小于1mm）的微创技术。与常规侧壁开窗方法相比，两次穿牙槽嵴顶方法为临床医生提供了一种简单、方便且微创的方法。

目标

• 两次穿牙槽嵴顶方法结合使用Geistlich Bio-Oss®和Geistlich Bio-Gide®进行两次窦底提升。
• 因严重的骨吸收而植入短种植体。

结论 

• 使用Geistlich Bio-Oss®和Geistlich Bio-Gide®结合植入短种植体的两次经牙槽嵴顶上颌窦底提升可克服严重的骨吸收。
• 使用盖氏生物材料并结合两次经牙槽嵴顶窦底提升术后并发症更少。

目的/方法

颊侧和腭侧采用局部浸润麻醉。拟植入部位使用环钻标记。深度控制在牙槽骨内以保护窦膜免于穿孔。然后将圆形骨块轻轻敲击并使用上颌窦底提升骨凿推入上颌窦。通过使用环钻，可以使用切骨块。在将骨块轻轻推入窦内的同时，窦膜也会升高。骨块提供成骨细胞，而连接的窦膜提供血液供应。成骨细胞和血液供应是骨形成的关键因素。使用骨膜剥离器将靠近骨块的上颌窦膜稍微剥离。然后再次将骨块升高约4mm。被推进的骨块便创建了一个空间。然后将Geistlich Bio-Oss®移植入这个空间。调整Geistlich Bio-Gide®以适用于覆盖骨切开部位。在六个月后采用相同的程序进行第二次窦底提升。

结论

结合植入短种植体的两次经牙槽嵴顶方法是克服严重上颌后牙骨吸收的有效方法。采用经牙槽嵴顶方法两次提升上颌窦底减少了骨移植材料的使用，节省了手术时间和成本，并且术后并发症较少。